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除臭机 | 1.0/台 | 8500.0 | 深名防 | MF-002 | 采用光解纳米半导体技术,在光崔化氧化反应中,通过UV光照射在纳米半导体上产生电子空穴对,与表面吸附的水份和氧气反应生成氧化性很活跃的氢氧自由基和超负氧离子基,能够把各种有害气体如:醛、苯、硫化物及其它VOC类有机物及无机物在光崔化氧化的作用下还原成二氧化碳和水以及其他无毒无害物质。羟基自由基能攻击细菌外壁的双胆层,使得微生物的致死脂质过氧化反应。 | 按行业标准提供服务 | |
除臭机 | 1.0/台 | 4800.0 | 深名防 | KVS-20 | 采用光解纳米半导体技术,在光崔化氧化反应中,通过UV光照射在纳米半导体上产生电子空穴对,与表面吸附的水份和氧气反应生成氧化性很活跃的氢氧自由基和超负氧离子基,能够把各种有害气体如:醛、苯、硫化物及其它VOC类有机物及无机物在光崔化氧化的作用下还原成二氧化碳和水以及其他无毒无害物质。羟基自由基能攻击细菌外壁的双胆层,使得微生物的致死脂质过氧化反应。 | 按行业标准提供服务 |